O le Bernoulli Ceramic End Effector — O le taulimaina o le Wafer e le fesoota'i mo Wafers manifinifi ma maaleale
O le St.Cera's Bernoulli ceramic end effector e fa'aaogaina le aerodynamic lift e taulimaina ai wafers e aunoa ma se pa'i fa'aletino. E gaosia mai le 99.8% alumina (Al₂O₃) po'o le silicon carbide (SiC) e mama atoatoa, o lo'o i ai ni nozzles ua fa'apipi'iina ma le sa'o e fa'aoso ai le kesi ua fa'amamafaina e fai ai se ata manifinifi o le ea i le va o le end effector ma le wafer. O lenei mataupu faavae e le pa'i ai e aveese ai le fa'aleagaina o le itu i tua, le gau o pito, ma le fa'aleagaina o le luga, ma avea ai ma mea lelei mo wafers manifinifi (≤100 μm), vaivai, po'o le pi'o. O le substrate seramika e maua ai le malosi maualuga o le flexural (361 MPa mo le Al₂O₃; e o'o atu i le 550–600 MPa mo le SiC), mamafa maualalo, ma le mautu lelei o le dimensional, ma fa'amautinoa ai le toe faia o le tulaga i totonu o robots fesiita'i wafer saoasaoa maualuga.
Fa'amatalaga i Meafaitino:O le Alumina (Al₂O₃) o le mea e sili ona faʻaaogaina lautele mo mea e faʻaaogaina ai le pito o le seramika i le taulimaina o le semiconductor wafer ona o lona tuʻufaʻatasiga lelei o le malosi, le puipuiga o le eletise, le mautu o vailaʻau, ma le taugofie. O le Silicon carbide (SiC) e ofoina atu le maualuga o le faʻavevela, le malosi maualuga, ma le teteʻe atu i le ofuina mo faʻaoga sili ona faigata. E ui o le yttria-stabilized zirconia (ZrO₂) e ofoina atu le malosi tele o le gau i le vevela o le potu, ae e seasea ona faʻaaogaina i lenei faʻaoga ona o lona maualuga o le mafiafia ma uiga eseese o le faʻalauteleina o le vevela; e mafai ona mafaufauina mo ni tulaga faʻapitoa e manaʻomia ai le malosi tele o le gau. Faʻamolemole faʻafesoʻotaʻi la matou 'au faʻapitoa mo taʻiala i le filifilia o meafaitino.
Fa'amatalaga auiliili(e fa'avae i le 99.8% Al₂O₃):
Meatotino | Taua (Al₂O₃) | |
| Meafaitino | 99.8% Alumina | |
| Mafiafia | 3.93 kalama/cm³ | |
| Malosiaga Fa'alava | 361 MPa | |
| Malosi o le Malepe | 3–4 MPa·m¹/² | |
| Vickers Hardness | 16 GPa | |
| Modulus a Talavou | 380 GPa | |
| Fa'alauteleina o le Vevela (25–1000°C) | 7.2×10⁻⁶/℃ | |
| Vevela Maualuga o le Fa'agaioiga | 800°C (ea) | |
| Ma'a'a o le fogā'ele'ele (fa'asaga i le wafer) | Ra ≤0.4 μm |
Mataupu Faavae o le Faagaioiga:
O le ea fa'apipi'i po'o le naitorosene (0.2–0.6 MPa) e sapalaiina e ala i auala i totonu ma alu ese atu e ala i nozzles sa'o. O le fa'avavevaveina o le ea e fausia ai se sone maualalo le mamafa i luga a'e o le end effector (Bernoulli effect), e fa'atupuina ai le malosi si'itia e lagolagoina ai le wafer i se va o le 50–200 μm. E leai ni pu po'o ni pads e fa'afeso'ota'i le pito i tua o le wafer.
Talosaga:
- · Fa'aaogaina o le apa manifinifi (≤50 μm) pe a uma ona oloina le itu i tua
- · Felauaiga o le apa ua pi'o (e pei o le mae'a ai o le CVD po'o le fa'amafanafana)
- · Fesiitaiga o le sela o le la ma le safaira LED
- · Fa'aautomatika o le potu mama e mana'omia ai le leai o se gaosiga o ni vaega laiti
- · Taulimaina o pane tioata i le gaosiga o fa'aaliga
Faiga o le Gaosiga:
O le mea fa'apipi'i seramika ua fa'amama mai le pauta mama maualuga → masini CNC 5-axis o alavai kesi ma pu o le nozzle (lautele 0.3–1.0 mm, fa'apalepale ±0.01 mm) → fa'apipi'iina o le luga i le Ra ≤0.4 μm → fa'amamāina ultrasonic → su'ega o le helium leak (alavai kesi). E le mana'omia se ufiufi — o le luga seramika e leai se mea e gaoioi ai i vaila'au ma e le fa'aleagaina.
Puleaina o le Tulaga Lelei:
- · Su'esu'ega 100% o fua fa'atatau (CMM) o tulaga o le nozzle, umi o le lima, ma le lamolemole
- · Su'ega o le tutusa o le tafe o le ea: pa'ū o le mamafa ≤5% i nozzles uma
- · Su'ega tafe: ua tapunia alavai kesi i le 0.6 MPa, leai se pa'ū o le mamafa i le silia ma le 30 sekone
- · Su'esu'ega vaaia i lalo o le microscope 20× mo ni māvaevae laiti po'o ni mea e fe'ai ai
Alelei i luga o Fa'ailoga Fa'afeso'ota'i Masani:
- · Leai se fa'aleagaina o le tua o le apa — leai se pa'i fa'amekanika
- · Leai se pito e malepe pe gaui o apa manifinifi
- · E taulimaina ni apa ua pi'o (e o'o atu i le 1 mm le aufana) ma se avanoa mautu
- · Ave'esea le tausiga o le masini fa'aola ma le porous chuck
- · E tete'e atu le fausiaina o le seramika i le ofuina ma osofa'iga fa'akemikolo
Fa'apitoa:
- · E maua mo le 200 mm, 300 mm, po'o le tele o le wafer fa'apitoa
- · Fa'ata'ita'iga o le ausa kasa: ituaiga sa'o, fa'asolo, po'o le vortex
- · Meafaitino: alumina (masani) poʻo le silicon carbide (mo le maualuga o le faʻavevela ma le teteʻe atu i le ofuina)
- · Umi o le lima, le flange e fa'apipi'i ai, ma le nofoaga o le uafu kesi e tusa ai ma le ata o le OEM
Tapula'a:
O le faʻatinoina o le mataupu faavae o Bernoulli (fuafuaga o le nozzle, avanoa ea) e sili atu i le lautele o laulau o meatotino o meafaitino ua tuʻuina atu. O meatotino faʻainisinia ma le vevela o loʻo i luga e mulimulitaʻi ma le faʻaeteete i pepa faʻamaumauga ua tuʻuina atu mo le 99.8% Al₂O₃. E leai se faʻaletonu o le faʻatinoga o le seramika i lalo o le tafe o le kesi mamafa e faʻamoemoeina e faʻavae i luga o nei meatotino o meafaitino. Mo wafers e maaleale i le tafe o le kesi (e pei o MEMS ma fausaga vaivai), e tatau ona fetuʻunaʻi le mamafa o le kesi ma le mamanu o le nozzle e tusa ai.







