Mama Fa'atatau o le Potu Alumina Mama Maualuga mo Faiga Plasma Etch ma CVD
O le mama fa'atatau o le potu a St.Cera o se vaega taua o le seti o mea e fa'aaogaina i masini e fa'aaoga ai le plasma etch, CVD, ma le PVD semiconductor. E gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o le mama e si'omia ai le pito o le wafer e fa'atapula'a ai le plasma ma fa'aleleia atili ai le tufatufaina atu o le ion angular, ma fa'aleleia atili ai le tutusa o le etch i luga o le fogā'ele'ele o le wafer. O lenei mea e ofoina atu le tete'e ese mai le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e o'o atu i le 1600°C, ma fa'amautinoa ai le fa'atuatuaina mo se taimi umi i siosiomaga plasma e fa'avae i le fluorine po'o le chlorine. O le ID/OD ma le lamolemole o le eleele (≤10 μm) e mafai ai ona tu'u sa'o le pito o le wafer, fa'aitiitia ai fa'aletonu o pito ma le gaosia o vaega laiti.
Fa'amatalaga auiliili(e fa'avae i le 99.8% Al₂O₃):
| Meatotino | Taua |
| Meafaitino | 99.8% Alumina (Aivi) |
| Mafiafia | 3.93 kalama/cm³ |
| Fa'asusuina o le Vai | 0% |
| Malosiaga Fa'alava | 361 MPa |
| Malosi o le Malepe | 3–4 MPa·m¹/² |
| Vickers Hardness | 16 GPa |
| Modulus a Talavou | 380 GPa |
| Fa'avevela o le Tafega | 32 W/m·k |
| Fa'alauteleina o le Vevela (25–1000°C) | 7.2×10⁻⁶/℃ |
| Malosiaga Dielectric | 15×10⁶ V/m |
| Tete'ega Fa'apitoa | >10¹⁴ Ω·cm |
| Vevela Maualuga o le Fa'agaioiga | 1600°C |
Talosaga:
- · Mama taula'i o le potu etch dielectric (oxide, nitride etch)
- · Mama pito o le potu e fai ai le silicon etch
- · Mama o le pusa fa'agasologa o le potu CVD
- · Talita ma mama fa'amau o le potu PVD
Faiga o le Gaosiga:
O le pauta alumina mama maualuga e oomi fa'a-isostatic → fa'amasini lanumeamata i se foliga e toetoe lava a mama → fa'ama'alili i le 1600°C → oloina taimane CNC o le ID, OD, ma le mafiafia → fa'apalapala e ausia ai le lamolemole ≤10 μm → fa'amamāina ultrasonic → 100% su'esu'ega CMM. O le fa'auma o le luga Ra ≤0.4 μm e fa'aitiitia ai le pipii o vaega.
Puleaina o le Tulaga Lelei:
- · Su'esu'ega 100% o fua fa'atatau (ID, OD, mafiafia, fa'atusatusaga)
- · Su'ega e fa'a'ofu ai le vali mo ni māvaevae laiti (e le fa'atagaina ni māvaevae)
- · Su'esu'ega vaaia i lalo o le 20× microscope — leai ni malepelepe, gaogao, po'o ni lanu e le toe suia
- · Su'ega malosi dielectric e tusa ai ma le ASTM D149 (fa'ata'ita'iga)
Tulaga lelei pe a fa'atusatusa i mama fa'apitoa e pei o le Silicon po'o le Quartz:
- · 5–10× umi atu le ola i le plasma fluorocarbon
- · Leai ni fasi otaota e fa'aleagaina ai apa'au
- · O le malosi maualuga o le dielectric e taofia ai le arcing
- · Tausia le lamolemole ma le sa'o o le fua i le faitau afe o itula RF
Meafaitino Eseese — Yttria-Stabilized Zirconia (ZrO₂):
Mo fa'aoga e mana'omia ai le malosi tele o le gau (e pei o potu e masani ona fa'avevela pe te'i fa'amekanika), o mama fa'atatau ZrO₂ (density 6.03 g/cm³, malosi fa'apipi'i 1000 MPa, malosi gau 5–8 MPa·m¹/²) e maua. Peita'i, e sili atu le taugofie o le alumina ma o le tulaga fa'atulagaina lea mo le tele o fa'aoga mama fa'atatau.
Fa'apitoa:
- · Fa'asologa o la'asaga, pu fa'asaga, po'o pu fa'apipi'i mo le ata o tagata fa'atau
- · Ufiufi Y₂O₃ mo le faʻaleleia atili o le teteʻe atu i le soloia o le plasma (mafiafia 20–100 μm)
- · Fa'ailogaina o le numera o le vaega, fa'ailoga o le aso, po'o fa'ailoga o le fa'atulagaina i le laser
Fa'amatalaga:O faʻamaumauga uma e mulimulitaʻi ma le faʻaeteete i le laulau o meatotino Al₂O₃ ua tuʻuina atu. Mo faʻamatalaga o le ZrO₂, tagaʻi i le pepa faʻamatalaga o le zirconia ua tuʻuina atu. Atonu e manaʻomia e mamanu o mama taulaʻi le faʻamaoniga o le pateni — e nafa tagata faʻatau ma le faʻamaonia o aia tatau tau meatotino tau le atamai.








