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Lima Robot Seramika Alumina Mama Maualuga mo le Taulimaina o Wafer
O le lima o le roboti seramika alumina a St.Cera ua mamanuina ma le sa'o mai le 99.8% Al₂O₃ mama maualuga (alumina). E tu'ufa'atasia ai le malosi fa'apitoa o le flexural (361 MPa), le ma'a'a maualuga (16 GPa), ma le maualalo o le mafiafia (3.93 g/cm³), ma i'u ai i se lima mama ae ma'a'a mo le fesiita'iga o le semiconductor wafer. O le coefficient fa'alauteleina o le vevela o le meafaitino (7.2 × 10⁻⁶/°C) e fetaui lelei ma le silicon, ma fa'aitiitia ai le le fetaui o le vevela i le taimi o le fa'agasologaina.
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O le Bernoulli Ceramic End Effector — O le taulimaina o le Wafer e le fesoota'i mo Wafers manifinifi ma maaleale
O le St.Cera's Bernoulli ceramic end effector e fa'aaogaina le aerodynamic lift e taulimaina ai wafers e aunoa ma se pa'i fa'aletino. E gaosia mai le 99.8% alumina (Al₂O₃) po'o le silicon carbide (SiC) e mama atoatoa, o lo'o i ai ni nozzles ua fa'apipi'iina ma le sa'o e fa'aoso ai le kesi ua fa'amamafaina e fai ai se ata manifinifi o le ea i le va o le end effector ma le wafer. O lenei mataupu faavae e le pa'i ai e aveese ai le fa'aleagaina o le itu i tua, le gau o pito, ma le fa'aleagaina o le luga, ma avea ai ma mea lelei mo wafers manifinifi (≤100 μm), vaivai, po'o le pi'o. O le substrate seramika e maua ai le malosi maualuga o le flexural (361 MPa mo le Al₂O₃; e o'o atu i le 550–600 MPa mo le SiC), mamafa maualalo, ma le mautu lelei o le dimensional, ma fa'amautinoa ai le toe faia o le tulaga i totonu o robots fesiita'i wafer saoasaoa maualuga.
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Fa'a'ofu'ofu keramika ua ufiufi i le Teflon – Luga e lē pipii mo le taulimaina o le Wafer ma'ale'ale
O le mea e fa'aaogaina ai le pito i tua o le seramika ua ufiufi i le Teflon (PTFE) a St.Cera e tu'ufa'atasia ai se mea e malosi tele ai le alumina ma se mea e tutusa lelei ma e maualalo le fe'avea'i o le PTFE (mafiafia 15–30 μm). O le mea e fa'aaogaina ai e maua ai se fua fa'atatau maualalo tele o le fe'avea'i (≤0.1), tete'e lelei tele i vaila'au, ma uiga e le pipii, e puipuia ai le pipii o le wafer ma fa'aitiitia ai le fa'aleagaina o le itu i tua. O le mea e fa'aaogaina ai le seramika o lo'o i lalo (99.8% Al₂O₃) e ofoina atu le malosi maualuga o le fe'avea'i (361–1000 MPa), tete'e i le ofuina, ma le mautu i le vevela e o'o atu i le 260°C (tapula'a o le ufiufi). O lenei mea e fa'aaogaina ai le pito e sili ona lelei mo le taulimaina o wafers maaleale, manifinifi, po'o le pipii (e pei o le mae'a ai o le ufiufi photoresist po'o ni faiga fa'akemikolo).
