O le Vacuum Chuck e fa'avae i luga o le Silicon Carbide (SiC) mo Siosiomaga e Maualuga le Vevela ma le Plasma
O le chuck seramika a St.Cera e fa'avae i le SiC e gaosia mai le silicon carbide mama maualuga (batch S1111, SiC 99.72%, free Si 0.05%). E maua ai le malosi o le flexural e fuaina e 449 MPa, fracture toughness e 3.12 MPa·m¹/², ma le elastic modulus e 457 GPa. O le thermal conductivity masani o le meafaitino (120–150 W/m·K) ma le fa'alauteleina maualalo o le vevela (4.0–4.5×10⁻⁶/℃) e mafai ai ona vave fa'ateleina le vevela ma fa'aitiitia ai le wafer warpage i le taimi o le thermal cycle. E mafai ona fa'atulagaina le chuck o se porous vacuum chuck (tafe tutusa o le kesi) po'o se grooved standard chuck. Faatasi ai ma le maualuga o le vevela o le fa'aaogaina o le 1600–1700°C (leai se avega) ma le tete'e atu i le erosion plasma, o lenei chuck e fetaui lelei mo le fa'agasologa o le wafer i le vevela maualuga (annealing, RTP) ma potu etch malolosi lea e fa'aleagaina ai alumina chucks.
Fa'amatalaga auiliili(e faʻavae i luga o le lipoti o suʻega SiC S1111 ua tuʻuina atu ma tau masani):
| Meatotino | Taua |
| Meafaitino | SiC (99.72% SiC, 0.05% Si Sa'oloto) |
| Mafiafia | 3.10–3.15 kalama/cm³ |
| Fa'asusuina o le Vai | 0% |
| Malosiaga Fa'alava | 449 MPa |
| Malosi o le Malepe | 3.12 MPa·m¹/² |
| Modulus Fa'alelei | 457 GPa |
| Vickers Hardness | 25–28 GPa |
| Fa'avevela o le Tafega | 120–150 W/m·K |
| CTE (25–1000°C) | 4.0–4.5×10⁻⁶/℃ |
| Fa'aaogaina Maualuga o le Vevela (leai se avega) | 1600–1700°C |
| Mafolafola (e silia ma le 300mm) | ≤5 μm |
| Fa'auma o le Laupapa | Ra ≤0.4 μm (fa'apipi'i) |
Talosaga:
● Fa'a'a'a'a i le vevela maualuga (fa'a'a'a'a, RTP, tuputupu a'e epitaxial)
● Plasma etch chuck e tete'e tele i le fluorine
● Fa'aaogaina o le apa manifinifi ma le fa'avevela/fa'amālūlū tutusa
● Pusa pupuu mo le lagolago o le apa e le pa'i atu
Gaosiga:
SiC sintering → oloina sa'o o le lamolemole ma le foliga o le luga → fa'atulagaina o le fausaga porous e filifili ai (mo le vacuum chuck) → lapping → fa'amamāina ultrasonic. O chuck ta'itasi e 100% siakiina mo le lamolemole (laser interferometer) ma le tutusa o le vacuum (su'ega tafe).
Puleaina o le Tulaga Lelei:
● Siakiina o le fua o le CMM (lautele, mafiafia, tulaga o pu)
● Fuaina o le lamolemole e tusa ai ma le ASTM
● Su'ega o le tafe o le helium (mo masini e fa'apipi'i ai le vacuum chucks)
● Fa'amaoniga o le malosi o le feliuliua'i i vaega ta'itasi (ref. lipoti o su'ega)
Tulaga lelei i luga o Alumina Chucks:
● Maualuga le fa'avevela (120–150 vs 32 W/m·K mo le alumina) – 4× vave le fesiitaiga o le vevela
● CTE maualalo (4.0 vs 7.2×10⁻⁶/℃) – faʻaitiitia ai le faʻalavelave faʻavevela o le wafer
● Tete'e sili atu i le plasma – 10× umi atu le olaga i le fluorine etch
● Vevela maualuga mo le fa'aaogaina (1600°C vs 800°C mo le alumina)
Fa'apitoa:
● Luga e iai pu po'o ni alavai
● Lapo'a 100–450 mm, lapotopoto pe faatafafā
● Mama fa'amaufa'ailoga pito po'o vaega e fa'amama ai le sone
● Filifiliga lagolago u'amea mo le fa'apipi'iina maualuga ma'a'a
O faʻamatalaga uma faʻainisinia o loʻo i luga e sau mai le lipoti o suʻega na tuʻuina atu (vaega S1111). O tau vevela ma le maʻaʻa e masani mo lenei vasega SiC. O porous SiC chucks e manaʻomia ni faʻagasologa faʻaopoopo; faʻamolemole fesili mo le avanoa patino o le porosity ma le tele o pore.
