Ipu Fa'asalalauina o le Kasa Alumina mo le Ulu Ta'ele CVD/PVD
O le ipu tufatufa kesi (ulu ta'ele) a St.Cera ua fa'a'ofuina ma le sa'o mai le seramika alumina mama e 99.8%. O lo'o i ai se fa'asologa o pu laiti (lapoa 0.3–1.5 mm) e fa'amautinoa ai le tafe tutusa o le kesi i luga o le fogā'ele'ele wafer i le taimi o fa'agasologa CVD, PVD, po'o le ALD. O le malosi maualuga o le dielectric o le ipu (>15×10⁶ V/m) ma le tete'e atu i le plasma e taua tele ai mo le fa'aputuina o le semiconductor thin-film.
Fa'amatalaga:
| Meatotino | Taua |
| Meafaitino | 99.8% Al₂O₃ po'o le SiC |
| Lapoa | 100 – 1500mm (faataamilo) pe faatafafā |
| Mafiafia | 5 – 20 milimita |
| Lapoa o le pu | 0.3 – 1.5 mm |
| Mamanu o le Pu | Fa'apitoa (tafatolu, sikuea, radial) |
| Mafolafola | ≤10 μm i luga o le eria atoa |
| Ma'ale'ale o le fogā'ele'ele | Ra ≤0.6 μm (itu kasa) |
| Fua Fa'atatau o le Eria Tatala | 5–15% |
Talosaga:
Ipu ta'ele PECVD
Fa'asusu kesi ALD
Ipu tufatufa kesi o le potu etch
Vaega o le reactor MOCVD
Gaosiga:
O le mea fa'apipi'i alumina ua fa'apipi'i mafolafola → Eliina CNC i meafaigaluega ua ufi i taimane (fa'apalepale i le tulaga o pu ±0.02 mm) → aveese o otaota → fa'amamāina o le ultrasonic → Afifiina Vasega 100.
Puleaina o le Tulaga Lelei:
E siakiina 100% le telē o pu i ipu ta'itasi (faiga va'ai), le lamolemole (laser interferometer), ma le tutusa o le tafe o le kesi (fa'afanua o le mamafa). Leai ni māvaevae laiti i lalo o le 20x microscope.
Lelei nai lo Papa U'amea:
Leai se fa'aleagaina o u'amea i ata manifinifi
Fa'aitiitia le gaosiga o fasi mea (leai ni fasi mea e 'ele'ele)
E tete'e atu i plasma fa'amama malolosi (CF₄, NF₃)
Fa'ailoga Fa'apitoa:
O alavai kesi i tua, pu e fa'aputu i le va o pu, fa'amaufa'ailoga pito, ma ituaiga eseese o meafaitino (SiC mo le maualuga o le fa'avevela, ufiufi Y₂O₃ mo le tete'e atu i le plasma).
Matou te tuʻuina atu le faʻamaoniga o le CAD ma le faʻataʻitaʻiga o le tafe mai o mea aʻo leʻi gaosia.
