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Fa'agasologa Fa'apitoa o le Al2O3 Ceramic Wafer Chuck
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Ipu Seramika mo Meafaigaluega Semiconductor Fa'apitoa a ST.CERA
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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12-Inisi Alumina Vacuum Chuck mo le 300mm Wafer Processing
O le masini e 12-inisi le umi o le masini e mūmū ai le ea a St.Cera ua faia ma le sa'o mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃) mo le taulimaina o le masini e 300mm le mamafa. O le masini e mūmū ai le ea e iai ni auvai lelei (lautele o auvai 0.5–1.0 mm, pitch 2–3 mm) e fa'amautinoa ai le tufatufaina tutusa o le masini e mūmū ai le ea i le lautele atoa e 300mm. E tausia le lamolemole i totonu ole 5 μm, e mafai ai ona fa'amautu le masini e aunoa ma ni fa'alavelave i le taimi e tipi ai, oloina i tua, ma le siakiina. O le malosi maualuga o le flexural o le meafaitino (361 MPa) ma le ma'a'a (16 GPa) e fa'amautinoa ai le mautu o le tele i se taimi umi e tusa lava pe i lalo o taamilosaga e mūmū ai le ea.
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Vaega Fa'asao Seramika mo Meafaigaluega Su'esu'ega Semiconductor
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Aveta'avale Meafaigaluega Semiconductor Ipu Seramika
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Vaega Fa'asao Seramika o Meafaigaluega Semiconductor
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Mama Fa'amaufa'ailoga Seramika Alumina Mama Maualuga mo le Fa'amaufa'ailogaina o le Potu Vevela Maualuga
O le mama fa'amaufa'ailoga seramika a St.Cera ua mamanuina e fai ma sui o mama polymer O i siosiomaga ogaoga e fa'aleagaina ai elastomers. O lenei mama fa'amaufa'ailoga ma'a'a e gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), e fa'aaogaina i galuega fa'amaufa'ailoga tumau - e masani ona fa'apipi'i fa'atasi ma se u'amea vaivai po'o se gasket graphite - e maua ai le fa'atuatuaina o le vacuum po'o le kesi i le vevela e o'o atu i le 800°C ma i siosiomaga plasma po'o vaila'au malolosi. O le meafaitino e leai se gassing, malosi maualuga (malosi fa'apipi'i autu 361 MPa), ma le le gaoioi o vaila'au (tete'e atu i halogens, acids, ma alkalis vagana ai HF). O luga fa'amaufa'ailoga ua fa'apipi'i sa'o (flatness ≤5 μm, roughness o le luga Ra ≤0.2 μm) e fa'amautinoa ai le fa'afeso'ota'i lelei ma vaega u'amea po'o seramika.
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Mama Fa'atatau o le Potu Alumina Mama Maualuga mo Faiga Plasma Etch ma CVD
O le mama fa'atatau o le potu a St.Cera o se vaega taua o le seti o mea e fa'aaogaina i masini e fa'aaoga ai le plasma etch, CVD, ma le PVD semiconductor. E gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o le mama e si'omia ai le pito o le wafer e fa'atapula'a ai le plasma ma fa'aleleia atili ai le tufatufaina atu o le ion angular, ma fa'aleleia atili ai le tutusa o le etch i luga o le fogā'ele'ele o le wafer. O lenei mea e ofoina atu le tete'e ese mai le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e o'o atu i le 1600°C, ma fa'amautinoa ai le fa'atuatuaina mo se taimi umi i siosiomaga plasma e fa'avae i le fluorine po'o le chlorine. O le ID/OD ma le lamolemole o le eleele (≤10 μm) e mafai ai ona tu'u sa'o le pito o le wafer, fa'aitiitia ai fa'aletonu o pito ma le gaosia o vaega laiti.
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Mama Seramika Alumina Mama Maualuga mo Potu Fa'agasologa CVD / PVD
O le mama seramika a St.Cera ua mamanuina faapitoa mo le faʻaaogaina i totonu o potu faʻagasologa o le CVD (Chemical Vapor Deposition) ma le PVD (Physical Vapor Deposition). O lenei mama e gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o se laina o le potu, mama taulaʻi, poʻo se vaega o le pusa faʻagasologa e faʻatapulaʻa ai le plasma ma puipuia puipui o potu mai le soloia. O lenei mea e ofoina atu le teteʻe lelei tele i le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e oʻo atu i le 1600°C, ma faʻamautinoa ai le umi o le ola tautua i totonu o siosiomaga plasma e faʻavae i le fluorine. O le saʻo o le faʻatagaina o le tele (± 0.05 mm i le ID/OD) ma le lamolemole (≤ 10 μm) e mafai ai ona tutusa le tulaga o le pito o le wafer, faʻaleleia atili le tutusa o le faʻaputuga ma faʻaitiitia ai le gaosiga o vaega.
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Porous Ceramic Vacuum Chuck mo le taulimaina o le Warped Wafer
O le porous ceramic chuck a St.Cera ua faia mai le alumina mama maualuga ma le tutusa o le open porosity e 30–45% ma le tele o pu e amata mai le 10 i le 100 μm. E le pei o grooved chucks masani, o le porous surface e maua ai le vacuum tufatufaina i le pito i tua o le wafer, e taofia lelei ai wafers ua pi'o, manifinifi, po'o le singulated e aunoa ma le si'itia o le pito pe gau. O le vacuum malu (e mafai ona fetu'una'i e ala i le restrictor) e puipuia ai fo'i le fa'ailogaina o le pito i tua.
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O le Alumina-Based Porous Ceramic Vacuum Chuck mo le taulimaina o le Manifi Wafer
O le porous chuck a St.Cera e fa'avae i le alumina e gaosia mai le 99.6% Al₂O₃ mama maualuga ma le porosity tatala fa'atonutonuina o le 30–45% ma le lapo'a tutusa o pu e amata mai le 10 i le 50 μm. E le pei o grooved chucks, o le pito porous e maua ai le vacuum tufatufaina i le pito atoa o le wafer, e aveese ai le fa'ailoga o pito ma mafai ai ona uu malu ia wafer manifinifi (≤100 μm) po'o wafer ua pi'o. O le mea e ofoina atu le malosi o le flexural ≥250 MPa ma le mautu o le vevela e o'o atu i le 400°C i le ea.
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Ipu Fa'asalalauina o le Kasa Alumina mo le Ulu Ta'ele CVD/PVD
O le ipu tufatufa kesi (ulu ta'ele) a St.Cera ua fa'a'ofuina ma le sa'o mai le seramika alumina mama e 99.8%. O lo'o i ai se fa'asologa o pu laiti (lapoa 0.3–1.5 mm) e fa'amautinoa ai le tafe tutusa o le kesi i luga o le fogā'ele'ele wafer i le taimi o fa'agasologa CVD, PVD, po'o le ALD. O le malosi maualuga o le dielectric o le ipu (>15×10⁶ V/m) ma le tete'e atu i le plasma e taua tele ai mo le fa'aputuina o le semiconductor thin-film.
