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Vaega Fa'asao Seramika mo Meafaigaluega Su'esu'ega Semiconductor
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Aveta'avale Meafaigaluega Semiconductor Ipu Seramika
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Vaega Fa'asao Seramika o Meafaigaluega Semiconductor
O vaega fa'asao o le seramika, lea na faia i le oomiina malulu ma fa'amamago i le vevela maualuga, ona fa'amamago lea ma fa'apupula sa'o, e mafai e vaega fa'asao o le seramika ona ausia so'o se mana'oga fa'apitoa o masini semiconductor fa'atasi ai ma ona foliga o le tete'e atu i le ofuina, tete'e atu i le 'ele, fa'alauteleina maualalo o le vevela, ma le fa'amafanafana. E mafai e seramika ona galue i le tele o ituaiga masini gaosi semiconductor i tulaga o le vevela maualuga, le gaogao po'o le kesi 'ele mo se taimi umi.
E faia mai le pauta alumina mama maualuga, fa'agasoloina e ala i le oomiina malulu isostatic, sintering i le vevela maualuga ma le fa'auma sa'o, e mafai ona o'o atu i le fa'apalepale o le fua i le ±0.001 mm, fa'auma o le luga Ra 0.1, tete'e i le vevela 1600 ℃.
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Mama Fa'amaufa'ailoga Seramika Alumina Mama Maualuga mo le Fa'amaufa'ailogaina o le Potu Vevela Maualuga
O le mama fa'amaufa'ailoga seramika a St.Cera ua mamanuina e fai ma sui o mama polymer O i siosiomaga ogaoga e fa'aleagaina ai elastomers. O lenei mama fa'amaufa'ailoga ma'a'a e gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), e fa'aaogaina i galuega fa'amaufa'ailoga tumau - e masani ona fa'apipi'i fa'atasi ma se u'amea vaivai po'o se gasket graphite - e maua ai le fa'atuatuaina o le vacuum po'o le kesi i le vevela e o'o atu i le 800°C ma i siosiomaga plasma po'o vaila'au malolosi. O le meafaitino e leai se gassing, malosi maualuga (malosi fa'apipi'i autu 361 MPa), ma le le gaoioi o vaila'au (tete'e atu i halogens, acids, ma alkalis vagana ai HF). O luga fa'amaufa'ailoga ua fa'apipi'i sa'o (flatness ≤5 μm, roughness o le luga Ra ≤0.2 μm) e fa'amautinoa ai le fa'afeso'ota'i lelei ma vaega u'amea po'o seramika.
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Mama Fa'atatau o le Potu Alumina Mama Maualuga mo Faiga Plasma Etch ma CVD
O le mama fa'atatau o le potu a St.Cera o se vaega taua o le seti o mea e fa'aaogaina i masini e fa'aaoga ai le plasma etch, CVD, ma le PVD semiconductor. E gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o le mama e si'omia ai le pito o le wafer e fa'atapula'a ai le plasma ma fa'aleleia atili ai le tufatufaina atu o le ion angular, ma fa'aleleia atili ai le tutusa o le etch i luga o le fogā'ele'ele o le wafer. O lenei mea e ofoina atu le tete'e ese mai le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e o'o atu i le 1600°C, ma fa'amautinoa ai le fa'atuatuaina mo se taimi umi i siosiomaga plasma e fa'avae i le fluorine po'o le chlorine. O le ID/OD ma le lamolemole o le eleele (≤10 μm) e mafai ai ona tu'u sa'o le pito o le wafer, fa'aitiitia ai fa'aletonu o pito ma le gaosia o vaega laiti.
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Mama Seramika Alumina Mama Maualuga mo Potu Fa'agasologa CVD / PVD
O le mama seramika a St.Cera ua mamanuina faapitoa mo le faʻaaogaina i totonu o potu faʻagasologa o le CVD (Chemical Vapor Deposition) ma le PVD (Physical Vapor Deposition). O lenei mama e gaosia mai le 99.8% alumina mama maualuga (Al₂O₃), o se laina o le potu, mama taulaʻi, poʻo se vaega o le pusa faʻagasologa e faʻatapulaʻa ai le plasma ma puipuia puipui o potu mai le soloia. O lenei mea e ofoina atu le teteʻe lelei tele i le plasma, malosi maualuga o le dielectric (15 × 10⁶ V/m), ma le mautu o le vevela e oʻo atu i le 1600°C, ma faʻamautinoa ai le umi o le ola tautua i totonu o siosiomaga plasma e faʻavae i le fluorine. O le saʻo o le faʻatagaina o le tele (± 0.05 mm i le ID/OD) ma le lamolemole (≤ 10 μm) e mafai ai ona tutusa le tulaga o le pito o le wafer, faʻaleleia atili le tutusa o le faʻaputuga ma faʻaitiitia ai le gaosiga o vaega.
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O le Bernoulli Ceramic End Effector — O le taulimaina o le Wafer e le fesoota'i mo Wafers manifinifi ma maaleale
O le St.Cera's Bernoulli ceramic end effector e fa'aaogaina le aerodynamic lift e taulimaina ai wafers e aunoa ma se pa'i fa'aletino. E gaosia mai le 99.8% alumina (Al₂O₃) po'o le silicon carbide (SiC) e mama atoatoa, o lo'o i ai ni nozzles ua fa'apipi'iina ma le sa'o e fa'aoso ai le kesi ua fa'amamafaina e fai ai se ata manifinifi o le ea i le va o le end effector ma le wafer. O lenei mataupu faavae e le pa'i ai e aveese ai le fa'aleagaina o le itu i tua, le gau o pito, ma le fa'aleagaina o le luga, ma avea ai ma mea lelei mo wafers manifinifi (≤100 μm), vaivai, po'o le pi'o. O le substrate seramika e maua ai le malosi maualuga o le flexural (361 MPa mo le Al₂O₃; e o'o atu i le 550–600 MPa mo le SiC), mamafa maualalo, ma le mautu lelei o le dimensional, ma fa'amautinoa ai le toe faia o le tulaga i totonu o robots fesiita'i wafer saoasaoa maualuga.
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Vaega Seramika Alumina Mama Maualuga mo Fa'aoga Semiconductor ma Alamanuia
E gaosia e St.Cera ni vaega seramika alumina (Al₂O₃) ua fa'a'ele'eleina ma le sa'o e tusa ai ma mana'oga o tagata fa'atau. Fa'aaogaina le 99.8% alumina mama maualuga, o nei vaega e maua ai le malosi tele o le flexural (361 MPa), ma'a'a maualuga (16 GPa), ma le malosi dielectric mata'ina (15×10⁶ V/m). Ua mamanuina mo masini semiconductor, fa'apotopotoga e tete'e i le ofuina, insulators eletise, ma mea fa'apipi'i vevela maualuga, o le meafaitino e ofoina atu le mitiia o le vai e toetoe lava a leai se (0%) ma le coefficient fa'alauteleina o le vevela o le 7.2×10⁻⁶/℃, ma fa'amautinoa ai le mautu o le dimensional i lalo o tulaga faigata.
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Porous Ceramic Vacuum Chuck mo le taulimaina o le Warped Wafer
O le porous ceramic chuck a St.Cera ua faia mai le alumina mama maualuga ma le tutusa o le open porosity e 30–45% ma le tele o pu e amata mai le 10 i le 100 μm. E le pei o grooved chucks masani, o le porous surface e maua ai le vacuum tufatufaina i le pito i tua o le wafer, e taofia lelei ai wafers ua pi'o, manifinifi, po'o le singulated e aunoa ma le si'itia o le pito pe gau. O le vacuum malu (e mafai ona fetu'una'i e ala i le restrictor) e puipuia ai fo'i le fa'ailogaina o le pito i tua.
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O le Alumina-Based Porous Ceramic Vacuum Chuck mo le taulimaina o le Manifi Wafer
O le porous chuck a St.Cera e fa'avae i le alumina e gaosia mai le 99.6% Al₂O₃ mama maualuga ma le porosity tatala fa'atonutonuina o le 30–45% ma le lapo'a tutusa o pu e amata mai le 10 i le 50 μm. E le pei o grooved chucks, o le pito porous e maua ai le vacuum tufatufaina i le pito atoa o le wafer, e aveese ai le fa'ailoga o pito ma mafai ai ona uu malu ia wafer manifinifi (≤100 μm) po'o wafer ua pi'o. O le mea e ofoina atu le malosi o le flexural ≥250 MPa ma le mautu o le vevela e o'o atu i le 400°C i le ea.
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Ipu Fa'asalalauina o le Kasa Alumina mo le Ulu Ta'ele CVD/PVD
O le ipu tufatufa kesi (ulu ta'ele) a St.Cera ua fa'a'ofuina ma le sa'o mai le seramika alumina mama e 99.8%. O lo'o i ai se fa'asologa o pu laiti (lapoa 0.3–1.5 mm) e fa'amautinoa ai le tafe tutusa o le kesi i luga o le fogā'ele'ele wafer i le taimi o fa'agasologa CVD, PVD, po'o le ALD. O le malosi maualuga o le dielectric o le ipu (>15×10⁶ V/m) ma le tete'e atu i le plasma e taua tele ai mo le fa'aputuina o le semiconductor thin-film.
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Pine Lagolago Seramika mo Fa'apipi'iga Fa'agasologa Semiconductor
O pine lagolago seramika a St.Cera (e ta'ua fo'i o pine si'i po'o pine lagolago) e fa'aaogaina i totonu o potu fa'agasologa semiconductor e si'i ai ni wafers po'o ni substrates i le taimi o le taulimaina, fa'avevela, po'o le fa'amālūlūina. O nei pine e gaosia mai le 99.8% alumina po'o le silicon nitride, e ofoina atu le malosi maualuga o le compressive, mautu i le vevela, ma tete'e atu i vaila'au. O le mamanu o le hemispherical po'o le flat tip e puipuia ai le valuina o le wafer.
